Uploaded November 2007 | Updated September 2026, 1 hour ago
Sputtering de plata en un cristal, esta vez sí resultó bastante bien. La tensión fue de 550 voltios aprox. y una intensidad de 200 mAh, el vacio no estoy seguro pero la bomba tardó media hora en hacer el vacio. El video enseña las partes de la bomba, fuente, etc, luego enseña el proceso, duró menos de 1 minuto y a 200 miliamperios algo menos de 30 segundos, luego se muestra el cristal con la plata depositada, le faltó algo más de tiempo por que quedó un cristal semitransparente, transmite un 20 o 30 % y refleja un 70 % aprox.
Más información comercial en: altortech.es
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